在微電子技術的設計和測試技術方面,隨著集成度和集成系統復雜性的提高,冗余技術、容錯技術,將在設計技術中得到廣泛應用。這對無塵室的空氣潔凈度要求會更加的嚴格,專家給大家介紹一種關于微電子工業高效空氣過濾器解決方案,實用性更強,對潔凈無塵室的空氣起到質的保證!
高效空氣過濾器廣泛用于各行業的無塵凈化車間的空調末端送風處,集成電路光刻工藝的尺寸是推動潔凈度要求向前發展的決定性因素。技術越進步,尺寸就越?。ㄈ缦卤恚?。具有很好的過濾潔凈作用。領先的晶圓設備,微粒過濾和控制AMC是必須的。高效空氣過濾器在微電子行業的作用使微粒過濾和控制AMC是高收益、低退貨率的半導體產業首要擔心的問題。
年 份 | 1987 | 1993 | 1998 | 2000 | 2006 | 2012 |
信息容量兆比特(M),千兆比特(Γ) |
1-4M | 16-64M | 256M | 1Γ | 6Γ | 64Γ |
最小光刻尺寸,微米 | 0.8-1.0 | 0.35-0.6 | 0.25 | 0.15 | 0.10 | 0.05 |
要求潔凈室的級別 | 4 | 3-4 | 2 | 2 | <1 | <1 |
微電子產品的功能要求越來越高, 如果落在集成電路上的粒子大于最小光刻尺寸的1%~2%,就會使集成電路成為廢品。金屬粒子、離子、細菌等都是產生廢品的元兇??諝鉂崈舳鹊暮脡闹苯佑绊懠呻娐飞a的成品率。 投資規模越來越大,對質量水平的要求越發嚴格。我們的超高效過濾器可以成功的過濾0.1微米的粒子,在未來的時間里,將開發、生產更高效率的空氣過濾技術與之相適應是我們義不容辭的責任。
不能很好的在潔凈室或設備中控制微?;駻MC將大大的削弱企業的經營利潤。潔凈室的最主要的問題是產品、工具、加工過程和氣味控制的污染 .1962年生產出晶體管——晶體管理邏輯電路和發射極藉合邏輯電路。MOS集成電路出現。由于MOS電路在高度集成方面的優點和集成電路對電子技術的影響,集成電路發展越來越快。
實際上如果沒有計算機的輔助,集成電路的集成棄將超大型越每片106—107個元件,以至達到全圖片上集成一個復雜的微電子系統。較復雜的大規模集成電路的設計是不可能的。70年代以來,集成電路利用計算機的設計有很大的進展。制版的計算機輔助設計、器件模擬、電路模擬、邏輯模擬、布局布線的計算輔助設計等程序,都先后研究成功,并發展成為包括校核、優化等算法在內的混合計算機輔助設計,乃至整套設備的計算機輔助設計系統。
集成電路制造的計算機管理,也已開始實現。此外,與大規模集成和超大規模集成的高速發展相適應,有關的器件材料科學和技術、測試科學和計算機輔助測試、封裝技術和超凈室技術等都有重大的進展。電子技術發展很快,在工藝技術上,微細加工技術,如電子束、離子束、X射線等復印技術和干法刻蝕技術日益完善,使生產上在到亞微米以至更高的光刻水平,高質量的超薄氧化層、新的離子注入退火技術、高電導高熔點金屬以其硅化物金屬化和淺歐姆結等一系列工藝技術正獲得進一步的發展。
70年代,高效空氣過濾器在微電子行業的作用使微電子技術進入了以大規模集成電路為中心的新階段。隨著集成密度日益提高,集成電路正向集成系統發展,電路的設計也日益復雜、費時和昂貴。微粒過濾
MegaCel 過濾器專門為滿足嚴格的半導體行業而設計,涉及到生產區、模塊式區域,小型或微型環境。
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